创建曲面阵列
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命令 |
路径 |
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创建曲面阵列 |
模型 |
创建曲面阵列命令可用于将二维或三维几何图形复制到平面对象或 NURBS 曲面上。这使您可以轻松创建具有几何图案、幕墙、开放式框架等的自由格式曲面。
NURBS 曲面和某些二维对象可被用作基础曲面。
下表描述了可用作阵列项的对象类型，以及将对象投影到基础曲面的方法。
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阵列项 |
投影方法 |
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实体 |
通过边界立方体中心投影 |
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符号实例 |
通过符号原点投影 |
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二维/三维坐标点 |
通过对象定义点投影（结果通常为平面对象） |
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拉伸/多重拉伸 |
通过定义点投影轮廓对象 |
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三维多段线 |
通过各个顶点投影（结果可能不会是平面） |
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组 |
投影成员对象如上所述；组的所有成员必须是合法的阵列对象 |
创建曲面阵列：
选择平面对象或 NURBS 曲面作为阵列对象的基础。此外，还可以选择将在曲面上复制的二维或三维几何图形（或者，在创建后编辑曲面阵列对象，以添加阵列几何图形）。
选择该命令。
“创建曲面阵列”对话框打开。
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参数 |
说明 |
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选择基础曲面对象 |
如果选定多个对象，最大的对象默认以红色高亮显示，表示该对象被选定作为基础曲面。单击下一个或上一个按钮以高亮显示不同对象。如果仅选定一个对象，则按钮变灰 |
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原点 X' 系数 |
输入阵列图案原点与基础曲面中心的 X 偏移。值必须是介于 -1 至 1 之间的数字。例如：要将每个阵列项沿着 X 轴向右移动其长度的一半，则输入 0.5。 |
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原点 Y' 系数 |
输入阵列图案原点与基础曲面中心的 Y 偏移。值必须是介于 -1 至 1 之间的数字。例如：要将每个阵列项沿着 Y 轴向下移动其长度的四分之一，则输入 -0.25。 |
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图案旋转 |
为阵列图案输入旋转角度 |
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X 和 Y 重复参数 |
对于 X 轴和 Y 轴，指定阵列对象的重复方式 |
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重复模式 X'/Y' |
选择是否根据重复次数或每对象固定距离，在基础曲面上重复阵列对象 |
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重复次数 X'/Y' |
如果重复模式设置为“重复次数”，输入阵列对象将沿 X 轴或 Y 轴重复的次数。将视需要重新调整阵列对象的大小以适合基础曲面。 |
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固定距离 X'/Y' |
如果重复模式设置为“固定距离”，输入每个阵列对象沿 X 轴或 Y 轴的长度。将视需要调整阵列对象的数量以适合基础曲面。 |
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偏移 X'/Y' 系数 |
输入一个数值以控制阵列对象之间的间距。从一个阵列项的中心到下一个阵列项（同行或同列）的中心的距离等于该系数乘以该阵列项的大小。例如，假设阵列项总大小为 12"，且偏移 X' 系数为 1.25，从一个项的中心到同行的下一个项的距离为 15" (12 x 1.25)。如果偏移系数为 1，该行或该列的阵列项彼此接触；如果系数为负值，阵列项相互重叠。 |
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转换 X'/Y' 系数 |
输入一个数值，将阵列对象的位置从一行或一列位移至下一行或下一列。从一个阵列项的中心到下一行或下一列阵列项的中心的距离，等于该系数乘以该阵列项的大小。例如，假设阵列项总大小为 12"，且位移 Y' 系数为 0.25，从一个项的中心到其右边（下一列）的项的中心的距离为 3" (12 x 0.25)。如果位移系数为 0（零），阵列项是对齐的。 |
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边缘条件 |
指定如何处理延伸超出基础曲面边界的阵列对象：允许对象“重叠”边缘、“忽略”那些来自阵列的对象或“修剪”边界处的对象 |
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显示基础曲面 |
选择是否显示或隐藏基础曲面 |
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比例 Z' 值 |
选定时，阵列对象自动沿 Z 轴缩放，缩放量与对象沿 X 轴或 Y 轴的缩放量成比例（以适合基础曲面）。取消选定时，阵列对象的 Z 值与原始阵列对象相同。 |
输入曲面阵列参数。
编辑曲面阵列
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命令 |
路径 |
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编辑曲面阵列 |
修改 |
创建曲面阵列后，可在“对象信息”面板中对其特性进行编辑。可以更改阵列创建期间可用的所有参数。还可以更改阵列应用至基础曲面的一侧（切换 Z' 方向）。
不可以直接编辑曲面阵列几何图形；使用编辑曲面阵列命令以单独编辑基础曲面和阵列组件。
编辑基础曲面或阵列项：
选择曲面阵列，然后选择此命令。
从“选择组件”对话框，选择是否编辑基础曲面或阵列项。
或者，右键单击曲面阵列，然后从上下文菜单中选择编辑基础曲面或编辑阵列项。
“编辑”窗口以对象编辑模式显示项目（请参阅对象编辑模式）。
可根据需要重调几何图形的形状、更改属性，以及移动、添加或移除项目。请记住，只有一项可被用作基础曲面。此外，基础曲面和阵列项必须是创建曲面阵列中描述的有效对象类型之一。
退出对象编辑模式以返回到常规绘图模式并更新曲面阵列。